用于大面积薄膜沉积的线形等离子体源研究进展

• 作者: 孟月东 左潇 赵颖 陈龙威 魏钰
• 来源期刊: 应用物理
• 学科: 物理学
• 关键词: 大面积 均匀 磁场 线形等离子体
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 页码范围: 109-115
• 页数: 7页
• 分类号: O53

摘要

本文系统介绍了几种线形等离子体源的特点及其应用,根据激励源的不同分别称为直流、射频、甚高频、微波、双频线形等离子体源,有磁场辅助的称为磁场增强线形等离子体源。与传统的大面积等离子体源不同,线形等离子体源仅需在一维方向实现均匀、稳定的等离子体,采用多个线形结构并排,或者与被镀样品在水平/垂直方向以适当速度运动,即可获得大面积均匀的薄膜沉积。近年来,研究人员采用磁场约束技术,减少带电粒子在器壁的复合损失,进一步提高等离子体的密度、均匀度和稳定性。线形等离子体及磁场增强线形等离子体密度 > 1011 cm?3,不均匀度 < ±5% (L > 1 m),被广泛用于Si3N4、SiO2、光伏电池硅本征层、纳米金刚石等薄膜的大面积沉积,具有很重要的应用价值和科学意义。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孟月东	中科院等离子体研究所低温等离子体应用研究室	6	20	3.0	4.0
2	赵颖	中科院等离子体研究所低温等离子体应用研究室	4	11	2.0	3.0
3	陈龙威	中科院等离子体研究所低温等离子体应用研究室	2	10	1.0	2.0
4	左潇	中科院等离子体研究所低温等离子体应用研究室	1	0	0.0	0.0
5	魏钰	中科院等离子体研究所低温等离子体应用研究室	1	0	0.0	0.0