磁控溅射W-Ti-N/MoS2薄膜及其摩擦学性能研究

• 作者: 唐华 孙建荣 李洪苹 李长生 杨峰 胡志立 莫超超 郭志成
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: W-Ti-N/MoS2薄膜 磁控溅射 摩擦学性能
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 1061-1066
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2012.12.01

摘要

采用W靶、Ti靶及MoS2靶,先制备W-Ti-N薄膜,然后再在其上面沉积MoS2纳米薄膜得到w-Ti-N/MS2纳米双层薄膜,通过多次实验得到溅射W-Ti-N/MoS2薄膜的最佳工艺如下:溅射气压1.0Pa,靶基距为100 mm,溅射功率为:W靶,Ti靶均为200W,MoS2靶为150 W;制备W-Ti-N薄膜溅射时间为1h,样品台加热600℃；制备MoS2纳米层时间为0.5h.使用X射线衍射仪,扫描电子显微镜对薄膜的成分和结构进行分析.采用纳米压痕测试系统测试薄膜的纳米硬度和弹性模量,采用VEECO WYKO NT1100非接触光学表面轮廓仪测试薄膜的表面及磨痕粗糙度；UMT-3摩擦磨损试验机在大气、室温、无润滑条件下对薄膜摩擦磨损性能分析,结果表明:在大气环境中,W-Ti-N/MoS2薄膜摩擦性能要优于纯W-Ti-N薄膜.