半导体工艺微细化遇阻

• 作者: 沈熙磊
• 来源期刊: 半导体信息
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体工艺 微细化 工艺技术人员 遇阻 光刻技术 工艺产品 曝光装置 输出功率 搬运系统 搬运机器人
• 年，卷（期）: bdtxx_2012,（1）
• 页码范围: 22-25
• 页数: 4页
• 分类号: TN305

摘要

【正】半导体工艺技术在不断进步。先行厂商已开始量产22/20 nm工艺产品,而且还在开发旨在2～3年后量产的15 nm技术。不过,虽然技术在不断进步,但很多工艺技术人员都拥有闭塞感。因为工艺技术革新的关键——微细化让人担心。决定微细化成败的蚀刻技术没有找到突破口,由微细化带来的成本优势越