氩气压强对直流磁控溅射法制备ZnO:Nb透明导电薄膜性质的影响

• 作者: 刘汉法 周爱萍 袁玉珍
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO:Nb薄膜 溅射压强 透明导电薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 974-977
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2012.11.05

摘要

室温下,利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了铌掺杂氧化锌(NZO)薄膜,研究了溅射压强(2～12 Pa)对薄膜结构、残余应力、表面形貌及其光电性能的影响.X射线衍射测量结果表明,所有样品都具有c轴择优取向的六角纤锌矿多晶结构,薄膜应力随压强的增大而减小.扫描电镜表明,随着溅射压强的增大,薄膜表面逐步趋向平整光滑、均匀致密.当溅射压强为10 Pa时,制备的ZnO∶Nb薄膜的最低电阻率可达3.52× 10-4 Ω·cm,残余应力为-0.37 GPa.压强由2Pa增大到12 Pa时,光学带隙由3.29eV增大到3.43 eV.紫外-可见透射光谱表明,所有薄膜在可见光范围内平均透过率均超过87％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁玉珍	山东理工大学理学院	26	159	7.0	11.0
2	刘汉法	山东理工大学理学院	57	316	11.0	13.0
3	周爱萍	山东理工大学理学院	17	53	3.0	6.0