TiVCN复合膜的微结构、力学性能与摩擦磨损性能研究

• 作者: 喻利花 曹峻 许俊华
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiVCN 磁控溅射 力学性能 摩擦磨损性能 Magné1i 相
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 页码范围: 555-560
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2011.00724

摘要

采用多靶磁控溅射技术,分别利用不同V靶功率和石墨靶功率制备一系列不同V含量和C含量的TiVN和TiVCN 复合膜.利用X射线衍射仪、纳米压痕仪,高温摩擦磨损仪研究了TiVN和TiVCN复合膜的微结构、力学性能及室温和高温摩擦磨损性能.研究表明,当V靶功率为60 W时,TiVN薄膜的硬度达到最大值,为25.02GPa.在此基础上逐渐加入C元素,当石墨靶功率为20 W时,TiVCN薄膜的硬度达到最大值,为28.51GPa.当石墨靶功率进一步增加,薄膜的硬度值开始逐渐降低.室温下,随着石墨靶功率的增加,TiVCN薄膜的摩擦系数逐渐减小.高温下,TiVCN复合膜的摩擦系数随着温度的升高先增加后减小,在700℃时获得最小值,当温度继续升高摩擦系数又增加.讨论了高温下TiVCN复合膜Magnéli相的作用和自适应机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许俊华		60	269	9.0	13.0
2	喻利花		58	246	8.0	12.0
3	曹峻		8	43	4.0	6.0