梯度α-Ta(N)/TaN扩散阻挡层的微结构与热稳性定

• 作者: 刘春海 安竹 宋忠孝 尹旭 汪渊
• 来源期刊: 四川大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 扩散阻挡层 电阻率 热稳定性 微结构
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 163-167
• 分类号: TN305.92
• 字数: 2661字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2012.01.027

摘要

本文提出了一种梯度氮化法制备出低阻、高稳定性的α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层,该方法有效地避免了异质元素的引入和高N含量导致的高电阻率.用四点探针(FPP)、X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)进行薄膜电性能和微结构的表征.分析结果表明,梯度氮化工艺能调控金属Ta膜的相结构,从而获得低阻α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层结构.高温老化退火的实验结果进一步证明此结构具有高的热稳定性,失效温度高达800℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安竹	四川大学原子核科学技术研究所教育部辐射物理及技术重点实验室	24	49	4.0	6.0
2	宋忠孝	西安交通大学材料学院金属材料强度国家重点实验室	30	143	8.0	11.0
3	刘春海	四川理工学院材料与化学工程学院材料腐蚀与防护四川省重点实验室	6	12	3.0	3.0
5	汪渊	四川大学原子核科学技术研究所教育部辐射物理及技术重点实验室	11	9	1.0	2.0
8	尹旭	四川大学原子核科学技术研究所教育部辐射物理及技术重点实验室	1	0	0.0	0.0