双沟平面掩埋结构SLD的液相外延生长及漏电分析

• 作者: 周勇 周雪梅 方亮 段利华 罗庆春 韩伟峰 黄茂
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 双沟平面掩埋异质结 液相外延 漏电流
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 光电器件
• 页码范围: 342-345
• 分类号: TN305
• 语种: 中文

摘要

对液相外延生长的双沟平面掩埋异质结（DCPBH）结构超辐射发光二极管（SLD）双沟内漏电现象进行了理论分析与定量计算。在此基础上通过优化外延结构设计与液相生长参数,得到了电流限制较理想的DCPBH结构。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方亮	重庆大学物理学院应用物理系	62	513	12.0	18.0
2	周勇		14	49	4.0	6.0
3	周雪梅		1	2	1.0	1.0
4	韩伟峰		4	15	3.0	3.0
5	罗庆春		4	16	3.0	4.0
6	黄茂		5	17	3.0	3.0