电源参数及KF和SiC纳米颗粒对ZK60镁合金微弧氧化膜的影响

• 作者: 伍帆 吴湘权 程英亮 薛志刚
• 来源期刊: 湖南大学学报（自然科学版）
• 关键词: 镁合金 微弧氧化 ZK60 膜层 KF
• 年，卷（期）: 2012,（10）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 60-66
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文

摘要

对ZK60镁合金在硅酸盐体系、不同的电源参数情况下进行微弧氧化研究.通过实验分析,得到如下结果:微弧氧化时间对膜层的耐蚀性能有较大的影响.当膜层生长到一定厚度后,耐蚀性随微弧氧化时间的延长而变差；当电流较小时,膜层均匀,孔洞较小,当电流增大时,膜层粗糙,孔洞变大,并且容易产生裂纹；KF对镁合金微弧氧化膜层的生成有很好的促进作用,当加入KF为12 g/L时,膜层厚度较没加KF增加一倍多,耐蚀性也得到很大提高.当F-浓度过高时,生成的膜层粗糙,而且容易脱落.在电解液中加入纳米SiC颗粒对微弧氧化膜层的厚度和耐蚀性无明显影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程英亮	湖南大学材料科学与工程学院	18	173	8.0	12.0
2	伍帆	湖南大学材料科学与工程学院	4	20	3.0	4.0
3	薛志刚	湖南大学材料科学与工程学院	6	17	2.0	4.0
4	吴湘权	湖南大学材料科学与工程学院	3	15	2.0	3.0