英特尔与ASML加速开发下一代半导体关键制造技术

• 来源期刊: 集成电路通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体制造商 英特尔公司 制造技术 开发 光刻技术 超紫外线 光刻设备 产业化
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 页码范围: 6-6
• 页数: 1页
• 分类号: TN305.7

摘要

英特尔公司宣布与ASML控股公司签署一系列价值总计33亿欧元（约41亿美元）的协议，以加速450毫米晶圆技术和超紫外线（EUV）光刻技术的开发，力争提前两年实现支持这些技术的光刻设备的产业化应用，从而为半导体制造商大幅降低成本并提高生产力。