(Ti,Al)N涂层应力沿层深分布的调整及大厚度涂层的制备

• 作者: 孙超 常正凯 王铁钢 程毓 赵升升
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: (Ti,Al)N 硬质涂层 应力分布 调整应力 N2分压
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 页码范围: 277-282
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1037.2011.00504

摘要

利用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制备了(Ti,Al)N涂层,研究了N2分压改变对涂层残余应力沿层深分布及相关力学性能的影响.结果表明,低N2分压下,(Ti,Al)N涂层残余应力沿层深分布较均匀,随N2分压的增加,涂层应力沿层深呈“钟罩型”分布,且全膜厚的应力值也明显增大；通过对涂层生长结构及微观成分分析,初步探讨了应力分布机理.随N2分压的增加,涂层硬度会显著增加,而膜/基结合力则大幅下降；采用改变N2分压工艺制备(Ti,Al)N涂层,可有效调整涂层残余应力沿层深分布趋势,改善其力学性能,并可成功制备厚度在130 μm以上的硬质涂层.