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低方阻、高透光度复合透明导电膜的研制
低方阻、高透光度复合透明导电膜的研制
作者:
刘永华
祖成奎
邱阳
金扬利
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
透明导电膜
透光度
方阻
复合
摘要:
摘要:针对低方阻、高透光度透明导电膜的要求,利用薄膜光学干涉原理,设计了ITO+Si02复合型的透明导电膜;研究了基底温度、沉积速率、充氧量等工艺参数对ITO膜的影响;利用优化的工艺参数成功制备了复合透明导电膜.测试结果表明,膜层性能优异,能够满足使用要求.
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文献信息
篇名
低方阻、高透光度复合透明导电膜的研制
来源期刊
真空
学科
工学
关键词
透明导电膜
透光度
方阻
复合
年,卷(期)
2012,(5)
所属期刊栏目
薄膜
研究方向
页码范围
32-34
页数
3页
分类号
O484|TB43
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-0322.2012.05.009
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘永华
14
42
4.0
6.0
2
祖成奎
45
202
7.0
12.0
3
金扬利
11
37
4.0
5.0
4
邱阳
11
30
4.0
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
透明导电膜
透光度
方阻
复合
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
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