532nm激光作用下RDX的解离

• 作者: 叶迎华 吴立志 张伟 朱朋 沈瑞琪 秦钊 胡艳
• 来源期刊: 火炸药学报
• 关键词: 物理化学 RDX 激光解离 分解机理 飞行时间质谱
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 页码范围: 39-42
• 分类号: TJ55|O644.18
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-7812.2012.01.009

摘要

采用飞行时间质谱仪(TOFMS)研究了532 nm激光作用下RDX的解离过程,得到RDX解离过程中的正、负离子飞行时间质谱图.根据离解产物离子的可能分布,提出了RDX的3种解离途径.结果表明,N-N和C-N键断裂竞争反应呈现在532 nm激光作用下RDX的解离过程中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶迎华	南京理工大学化工学院	123	751	15.0	19.0
2	沈瑞琪	南京理工大学化工学院	171	1017	16.0	20.0
3	胡艳	南京理工大学化工学院	56	350	11.0	15.0
4	张伟	南京理工大学化工学院	30	170	6.0	12.0
5	吴立志	南京理工大学化工学院	42	141	6.0	9.0
6	朱朋	南京理工大学化工学院	30	147	7.0	10.0
7	秦钊	南京理工大学化工学院	2	5	1.0	2.0