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摘要:
为了研究膜层结构对非蒸散型吸气薄膜性能的影响,运用射频磁控溅射法(RF magnetron sputtering)制备了ZrCoRE单层膜和双层膜,其中单层膜只含主体层,双层膜含有主体层和附着层.采用扫描电子显微镜( SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射法(XRD)表征了薄膜的形貌和结构,利用ASTM F798-97“动态法”测试了薄膜的吸气性能.结果表明,ZrCoRE薄膜的主体层在较高沉积压强(4 Pa)下受到原子阴影效应与沉积原子低迁移率的作用而形成柱状组织,附着层在较低沉积压强下(0.2 Pa)由于沉积原子迁移率高而形成致密组织,附着层的存在使主体层柱状组织实现连续生长;主体层表面为20 nm的颗粒无序堆积态,形成了大量的表/界面缺陷;通过高频感应在300℃下激活30 min,在2.7 ×10-4 Pa的H2压强下,薄膜的室温吸气速率在1~ 100 cm3·s - 1·cm-2范围内变化;双层膜吸气速率是单层膜的10倍,3h的吸气量达80 Pa·cm3 ·cm-2;吸气薄膜的大活性比表面积和高扩散速率,使其单位质量吸气量达104 Pa·cm3 ·g-1量级以上,高于块体吸气剂的103 Pa·cm3·g-1量级,附着层的存在提高了主体层的吸气性能.
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文献信息
篇名 ZrCoRE吸气薄膜的膜层结构与性能研究
来源期刊 稀有金属 学科 工学
关键词 ZrCoRE 非蒸散型吸气薄膜 磁控溅射法 膜层结构 吸气性能
年,卷(期) 2012,(5) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 757-761
页数 分类号 TB43
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.0258-7076.2012.05.014
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杜军 75 496 13.0 17.0
2 尉秀英 22 160 8.0 11.0
3 毛昌辉 60 564 12.0 21.0
4 张艳 12 32 3.0 4.0
5 卜继国 3 5 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
ZrCoRE
非蒸散型吸气薄膜
磁控溅射法
膜层结构
吸气性能
研究起点
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