硅片表面制备Ni68Co24P8化学镀层及其性能研究

• 作者: 孙宝珠 张含卓 方亮 钟耀东
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-Co-P镀层 化学镀 显微结构 腐蚀 磁性
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 1743字
• 语种: 中文

摘要

在p型＜100＞单晶硅表面制备了Ni68Co24P8化学镀层,分析了镀层的显微结构、耐蚀性及磁学性质.结果表明:Ni68Co24P8镀层为非晶结构,表面均匀分布着直径约为0.5～4.2 μm的球状团簇;在10.0％ NaOH溶液和3.5％ NaCl溶液中,镀层表现出活化—钝化—过钝化的腐蚀行为,而在1.0％ H2SO4溶液中,镀层表面无法形成钝化膜,耐蚀性大幅下降;室温下,Ni68Co24P8镀层呈典型的软磁特征,饱和磁化强度为33.4 A·m2/kg.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方亮	中国矿业大学机电工程学院	34	266	9.0	15.0
2	孙宝珠	中国矿业大学机电工程学院	3	5	1.0	2.0
3	张含卓	中国矿业大学机电工程学院	17	17	3.0	4.0
4	钟耀东	中国矿业大学机电工程学院	12	39	4.0	6.0