低维碳基纳米材料的场电子发射特性

• 作者: 李俊杰 王强 顾长志
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 一维碳基纳米材料 场致电子发射特性 等离子体技术
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 场致发射技术发展专题
• 页码范围: 23-29
• 页数: 7页
• 分类号: TN141
• 字数: 4337字
• 语种: 中文

摘要

利用等离子辅助化学气相沉积技术制备了一系列低维碳基纳米材料,如碳纳米管、碳纳米管锥及金刚石纳米锥等,由于其优异的力学、热学及电学特性,而成为真空场致电子发射的优选材料.本文介绍在单根和阵列结构低维碳基纳米材料的场电子发射特性及发射机制上的研究进展,并探讨这一领域今后的发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王强	中国科学院物理研究所微加工实验室	267	5471	42.0	69.0
2	顾长志	中国科学院物理研究所微加工实验室	21	86	5.0	8.0
3	李俊杰	中国科学院物理研究所微加工实验室	37	329	7.0	17.0