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摘要:
利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术,在ZnO/ZnMgO异质结构上制备SiO2作为栅绝缘层,采用光刻与腐蚀工艺制备ZnO/ZnMgO异质结场效应管.电学性能测试及计算结果表明器件栅压调控作用明显.发现栅端漏电流对器件性能造成一定影响.在低温条件下,栅绝缘层产生钝化,从而能够改善器件的性能
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文献信息
篇名 ZnO/ZnMgO异质结场效应管的制备与性能研究
来源期刊 发光学报 学科 工学
关键词 ZnO / ZnMgO 异质结场效应管 迁移率
年,卷(期) 2012,(4) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 449-452
页数 分类号 TN386
字数 2033字 语种 中文
DOI
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研究主题发展历程
节点文献
ZnO / ZnMgO
异质结场效应管
迁移率
研究起点
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
发光学报
月刊
1000-7032
22-1116/O4
大16开
长春市东南湖大路16号
12-312
1970
chi
出版文献量(篇)
4336
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7
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29396
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