喹啉氧基酞菁金属配合物光敏化氧化色氨酸能力的研究

• 作者: 刘宏 方昱婷 李俊 蔡丽璇 薛金萍 郑科
• 来源期刊: 影像科学与光化学
• 学科: 化学
• 关键词: 喹啉氧基 酞菁金属配合物 色氨酸 光敏化氧化
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 124-128
• 分类号: O611|O614
• 字数: 2394字
• 语种: 中文

摘要

酞菁金属配合物是光动力治疗的新一代光敏剂,其治疗作用的机理以及引起的生物效应一直是人们研究的热点.本文选用色氨酸作为与喹啉氧基酞菁金属配合物作用的靶分子,讨论了配合物的组成结构与其光敏化氧化色氨酸能力的相关性.结果表明,酞菁环内中心金属离子和环周边取代基的组成结构以及取代位置与数目都影响其光敏化氧化色氨酸能力,中心金属离子为闭壳层电子结构、取代基位于α位以及提高取代基数目均有利于提高光敏化氧化活性,同时显示,取代基的组成结构对靶分子有一定选择性,研究结果可为研发该类光敏剂提供依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘宏	福州大学化学化工学院	8	53	4.0	7.0
2	方昱婷	福州大学化学化工学院	4	0	0.0	0.0
3	薛金萍	福州大学化学化工学院	14	78	5.0	8.0
4	郑科	福州大学化学化工学院	1	0	0.0	0.0
5	李俊	福州大学化学化工学院	9	34	2.0	5.0
6	蔡丽璇	福州大学化学化工学院	1	0	0.0	0.0