工艺参数对阴极电弧离子镀ZrN薄膜表面形貌及结构的影响

• 作者: 康忠明 李福球 林凯生 林松盛
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 离子镀 ZrN薄膜 表面形貌 结构
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 51-54
• 页数: 4页
• 分类号: TG1774.444|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.04.014

摘要

本文采用阴极电弧离子镀技术制备了ZrN膜层,研究了工作气压、偏压、弧流等工艺参数对ZrN膜层表面形貌和结构的影响,分别用扫描电镜( SEM)、X射线衍射仪(XRD)分析了膜层的表面形貌及相结构.结果表明:工作气压、偏压、弧电流等工艺参数对ZrN膜层的表面形貌有较大的影响,在本实验内适当提高N2压强、偏压以及在稳弧前提下降低弧流有利于减少大颗粒,改善ZrN膜层表面形貌,提高膜层综合性能；不同工艺参数下制备的ZrN膜层均具有典型的面心立方结构,工作气压和弧电流对ZrN膜层晶体生长方向的影响较小,偏压对晶体生长方向的影响显著,在20V偏压下,晶体呈(200)面择优取向,继续提高偏压( 100 V～300 V),晶体生长呈(111)面择优取向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林松盛		45	332	11.0	14.0
2	李福球		4	39	3.0	4.0
3	林凯生		8	92	6.0	8.0
4	康忠明		3	19	3.0	3.0