尼莫地平分子印迹聚合物的制备及热力学性能研究

• 作者: 修荣 冯丽霞 林玉龙
• 来源期刊: 分析测试学报
• 学科: 化学
• 关键词: 尼莫地平 分子印迹 热力学 吸附
• 年，卷（期）: 2012,（12）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 1577-1580
• 页数: 4页
• 分类号: O657.3|TQ460.72
• 字数: 2634字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4957.2012.12.019

摘要

采用本体聚合法,以甲基丙烯酸(MAA)为功能单体、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)为交联剂、尼莫地平为模板分子,制备了分子印迹聚合物.运用平衡结合实验,研究了印迹聚合物对尼莫地平、尼群地平、非洛地平药物分子的选择性识别能力.3种药物的静态吸附分配系数KD值分别为0.221 4、0.197 2、0.051 4.结果表明分子印迹聚合物对尼莫地平有较高的选择性.测定了不同温度下印迹聚合物的吸附等温曲线,表明吸附等温线为Ⅰ型吸附等温线,且随着温度的升高吸附量降低,说明吸附过程是放热过程.为了进一步研究印迹聚合物的吸附机理,进行了热力学性质的研究,测定了不同温度下吸附过程的熵变、焓变和吉布斯自由能变化,实验结果表明吸附是焓控制过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯丽霞	河北医科大学外语部	25	13	2.0	2.0
2	修荣	河北医科大学药学院	31	131	7.0	8.0
3	林玉龙	河北医科大学药学院	12	79	5.0	8.0