亚微米深度位相型衍射光栅的研制及其失效分析

• 作者: 周张钰 田红彦 苏兆国 齐欣平 龚勇清
• 来源期刊: 失效分析与预防
• 学科: 工学
• 关键词: 亚微米 位相型 衍射光栅 失效分析
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 99-103
• 分类号: TH744.1
• 字数: 2889字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-6214.2012.02.008

摘要

提出了一种亚微米深度的纯位相型玻璃衍射光栅制作工艺,采用光刻制栅方法对要制作的光栅结构进行了分析；用AUTOCAD绘图软件绘制光栅的排列布局以及MATLAB软件对设计出的图案进行衍射图样模拟,在基于数字微镜的光刻机上进行曝光,由涂覆光刻胶的铬玻璃上得到缩微图案；观察了单色激光的夫琅禾费光栅衍射图样,以确定最终的设计图案；用电子束刻蚀方法得到的铬掩膜板进行常规光刻工艺处理,得到纯位相型的衍射光栅,最后通过对衍射光栅的衍射图案的失效性分析确定最佳的光刻工艺.结果表明:利用光刻制栅方法不仅可以在玻璃上制得纯位相型光栅,同样也可以在硅片、金属等其他基底上制得光栅或其他光学重复单元,方法可行,且材料成本不高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	齐欣平		1	1	1.0	1.0