硅对NO3-胁迫下黄瓜幼苗生长及抗氧化酶活性的影响

• 作者: 原程 史庆华 宋云鹏 李小刚 杨凤娟 王秀峰 魏珉
• 来源期刊: 山东农业大学学报（自然科学版）
• 学科: 农学
• 关键词: 硅 NO3-胁迫 黄瓜幼苗 抗氧化酶
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 页码范围: 43-47
• 分类号: S642.2.601
• 字数: 3750字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2324.2012.01.009

摘要

采用营养液培养试验,通过添加不同浓度(0、0.5、1、1.5、2 mmol·L-1)的Na2SiO3作为硅供体,研究外源硅对NO3-胁迫下黄瓜幼苗生长及叶片抗氧化酶活性的影响.结果表明,140 mmol·L-1 NO3-胁迫下,外加1mmol·L-1 Na2SiO3处理7d后,黄瓜幼苗叶片中超氧化物歧化酶(SOD)、愈创木酚过氧化物酶(POD)过氧化氢酶(CAT)和抗坏血酸过氧化物酶(APX)活性显著升高；丙二醛(MDA)含量显著降低,说明外加1mmol· L-1Na2 SiO3增强了黄瓜幼苗对活性氧的清除能力,降低了膜脂过氧化程度,幼苗生长势增加,对高浓度NO3-胁迫的抗性增强；当Na2 SiO3浓度高达2 mmol·L-1时,其叶片SOD、POD、CAT和APX活性均开始降低,MDA含量增加,黄瓜幼苗受害加重.可见,外加一定浓度的Na2SiO3(0.5 ～1 mmol·L-1)可通过提高抗氧化酶活性和降低膜脂过氧化来缓解NO3-胁迫对黄瓜幼苗的伤害.