用逐层法设计Rh-Si真空紫外高反膜

• 作者: 刘兴悦 干蜀毅 戴佳鑫 李杰 赵腾 陈大鹏
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 真空紫外 高反膜 Rh-Si膜系 逐层设计
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TB79
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.04.009

摘要

本文简要阐述了“逐层”设计方法,并将其用于真空紫外波段高反膜的设计.利用Matlab软件编程设计,计算了50 nm～200 nm波段范围内高反膜系及其反射率.并与同样以熔融石英为基底、不同膜材组合所达到的膜系反射率进行了对比,反射率增大明显.同时计算了实验中出现膜厚误差时对反射率造成的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	干蜀毅	合肥工业大学机械与汽车工程学院	59	703	12.0	25.0
2	李杰	合肥工业大学机械与汽车工程学院	12	35	3.0	5.0
3	赵腾	合肥工业大学机械与汽车工程学院	4	30	2.0	4.0
4	陈大鹏	合肥工业大学机械与汽车工程学院	4	30	2.0	4.0
5	刘兴悦	合肥工业大学机械与汽车工程学院	3	7	1.0	2.0
6	戴佳鑫	合肥工业大学机械与汽车工程学院	5	21	2.0	4.0