指甲花萃取物对镍从瓦特镀液中电沉积的影响

• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 低碳钢 瓦特镀镍 添加剂 指甲花萃取物 羟基萘醌 赫尔槽试验 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 电镀
• 页码范围: 1-4
• 分类号: TQ153.12
• 字数: 701字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2012.07.001

摘要

采用赫尔槽试验、分散能力测定法、扫描电镜、X射线衍射、能谱分析、硬度测量及交流阻抗谱,研究指甲花萃取物(主要成分为2-羟基-1,4-萘醌)对镍从瓦特镀液中电沉积(以低碳钢为基体)的影响.在温度40 ～ 50℃和pH 4.5～ 5.0的条件下,从含60 mL/L指甲花萃取物的瓦特镀镍液中得到的镀层具有良好的耐蚀性和硬度.指甲花萃取物作为瓦特镀镍液的添加剂,极大地提高了镀液的分散能力和电流效率.在最佳指甲花萃取物浓度下所得的镀镍层为晶态,结晶细致.