非晶/纳米晶TiB2薄膜的制备及其电化学性能研究

• 作者: 刘林林 徐江 沈凯 潘小静
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 物理学
• 关键词: 非晶/纳米晶 耐蚀性能 动电位极化 交流阻抗谱
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 固态电子器材及材料
• 页码范围: 135-138
• 分类号: O484.1
• 字数: 2345字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2012.02.005

摘要

通过双层辉光离子渗表面处理技术,在纯Ti基体上制备了非晶/纳米晶TiB2及Ti(Al)B2薄膜.利用X射线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)观察薄膜的微观组织特征.运用动电位极化及交流阻抗谱(EIS)的电化学方法,研究薄膜试样在3.5wt.％NaCl溶液中的电化学特性.结果表明:制备的薄膜试样大大提高了纯Ti基体耐蚀性能,Al元素的加入稍微降低了薄膜的耐蚀性,但仍优于基体材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐江	南京航空航天大学材料科学与技术学院	29	196	9.0	13.0
2	刘林林	南京航空航天大学材料科学与技术学院	3	22	2.0	3.0
3	沈凯	南京航空航天大学材料科学与技术学院	16	101	6.0	9.0
4	潘小静	南京航空航天大学材料科学与技术学院	1	2	1.0	1.0