形核密度对CVD金刚石涂层附着性能的影响

• 作者: 吴学林 赵晓凯 邓福铭
• 来源期刊: 超硬材料工程
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积(CVD) 金刚石涂层 硬质合金 彤核密度
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 研究和应用
• 页码范围: 1-4
• 分类号: TQ164
• 字数: 2698字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-1433.2012.02.001

摘要

采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在硬质合金基体上进行金刚石的形核生长,使用扫描电镜(SEM)对金刚石涂层形核情况进行分析,研究了不同形核密度对CVD金刚石涂层附着力的影响.结果表明:当碳源浓度达到3％时,表面形核密度最高,约为107/cm2；浓度增大为4％时,形核密度降低.通过压痕实验对比分析得出形核工艺中碳源浓度为3％时沉积的金刚石涂层压痕最浅,压痕直径最小,金刚石涂层具有良好的附着性能.