高激光损伤阈值266nm紫外增透膜研究

• 作者: 朱元强
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 紫外增透膜 物理气相沉积 激光诱导损伤阈值
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 75-77
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.8
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.04.020

摘要

为了研制高激光性能紫外增透膜,分别使用HfO2/SiO2和Al2O3/MgF2两种高低折射率材料组合,采用物理气相沉积技术,设计制备了266 nm增透膜；分析测试了不同材料所组成的增透膜的剩余反射率、粗糙度、光学损耗、界面电场强度和激光诱导损伤阈值等特性.研究结果表明,两组不同膜料制备的266 nm增透膜都能达到剩余反射率＜0.2％的要求,且激光诱导损伤阈值都大于5 J/cm2( 266 nm,7 ns).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱元强		3	6	2.0	2.0