衬底温度对氧化钛薄膜的光学常数影响

• 作者: 吴志明 居勇峰 李林 蒋亚东
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钛薄膜 XRD 椭偏仪 光学常数 光学带隙
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 固态电子器件及材料
• 页码范围: 7-10
• 分类号: TN305.92
• 字数: 3358字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2012.01.002

摘要

采用沈阳CK-3高真空磁控溅射薄膜沉积设备在K9玻璃衬底上分别制备了衬底温度为150℃、200℃和250℃的氧化钛薄膜.XRD分析显示这三种温度制备的薄膜由于制备温度不高均没有明显衍射峰,为非晶薄膜.薄膜的光学常数由德国SENTECH SE 850型光谱型椭偏仪对薄膜测试得到,测试波长为300 nm～ 800 nm,采用Cauchy模型对测试结果进行拟合.结果发现随着制备衬底温度的增大,薄膜的折射率n和消光系数k都随着增大.在衬底温度从150℃增大到250℃时,薄膜的光学带隙从3.46 eV减小到3.02 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李林	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	28	137	7.0	10.0
2	吴志明	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	78	544	13.0	17.0
3	居勇峰	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	6	21	3.0	4.0
4	蒋亚东	电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室	318	2024	18.0	25.0