热处理对TbDyFe薄膜性能的影响

• 作者: 李晓明 杜兆富
• 来源期刊: 物理实验
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁致伸缩 TbDyFe薄膜 非晶 退火
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 物理实验与应用
• 页码范围: 9-13
• 分类号: O484.4
• 字数: 2958字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-4642.2012.05.003

摘要

采用磁控溅射方法利用镶嵌靶材制备非晶TbDyFe薄膜,然后分别在150,300,450,550℃下退火,研究了热处理对TbDyFe薄膜性能的影响.结果显示,550℃温度下退火的样品出现RFe2相.随着退火温度的升高,晶粒逐渐长大,空洞网络变短而宽,薄膜的磁特性显示,其矫顽力及矩磁比均在出现RFe2相的550℃退火的样品中达到最大值.随着退火温度的增加,薄膜的易磁化轴从垂直膜面方向向平行膜面方向转动.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李晓明	曲阜师范大学物理工程学院	14	32	3.0	5.0
2	杜兆富		9	17	2.0	3.0