大尺寸氟化钡晶体的生长

• 作者: 任绍霞 刘建强 史达威 张钦辉 甄西合 葛云程
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氟化钡晶体 坩埚下降法 透过率
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 页码范围: 262-263
• 分类号: O436
• 字数: 1227字
• 语种: 中文

摘要

通过软件模拟设计合理的炉体温场结构,并对晶体原料的提纯及生长工艺条件进行优化,采用改进的坩埚下降法成功地制备出了大尺寸、高质量的氟化钡晶体.晶体的透过率在0.2 ～10 μm波长范围内高于85％,最高透过率约为94％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任绍霞		5	28	4.0	5.0
2	甄西合		9	15	2.0	3.0
3	张钦辉		3	5	1.0	2.0
4	刘建强		2	5	1.0	2.0
5	史达威		3	10	2.0	3.0
6	葛云程		3	20	2.0	3.0