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摘要:
传统电弧离子镀存在着大颗粒污染、沉积温度相对较高和易引发微弧击穿效应等诸多不足,制约其在精细薄膜、低温沉积和功能薄膜等方面的应用.本文简要介绍了电弧离子镀中大颗粒的形成机理,旨在探讨用磁场控制、脉冲电弧、磁过滤及脉冲偏压等方法来减少大微粒污染及其作用机理.
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文献信息
篇名 探讨电弧离子镀中“大颗粒”净化方法
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 电弧离子镀 "大颗粒"污染 脉冲电弧源 磁过滤 脉冲偏压
年,卷(期) 2012,(4) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 72-74
页数 3页 分类号 TB79|TB43
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.04.019
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研究主题发展历程
节点文献
电弧离子镀
"大颗粒"污染
脉冲电弧源
磁过滤
脉冲偏压
研究起点
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
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