专利摘要

• 来源期刊: 清洗世界
• 学科: 工学
• 关键词: 摘要 清洗方法 专利 清洗装置 清洗系统 清洗液 控制开关 反渗透膜
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 信息之窗
• 页码范围: 38-38
• 页数: 1页
• 分类号: TN304.12
• 字数: 791字
• 语种: 中文

摘要

匀胶清洗装置及匀胶清洗方法公开（公告）号：CN102489464A公开（公告）日：2012.06.13发明（设计）人：王友旺;林盛浩;裴新;胡华摘要：本发明涉及一种匀胶清洗装置,包括清洗系统,所述清洗系统包括用于盛放清洗液的液罐、控制开关组件、喷头以及将三者连接的水管,所述喷头用于对准硅片的背面、喷射清洗液对硅片背面进行清洗。本发明还涉及一种匀胶清洗方法。本发明通过喷射清洗液对硅片背面进行清洗，可以将甩胶时被甩到硅片背面的光刻胶清洗掉，消除硅片背面的沾污，从而提高良品率。反渗透膜钙垢清洗方法