靶基距对柔性基底上脉冲激光沉积透明导电薄膜的影响

• 作者: 季鑫 宓一鸣 李明 言智
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积 柔性基底 透明导电氧化物 掺锡氧化铟 铝掺杂氧化锌 铟掺杂氧化锌
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与探索
• 页码范围: 55-59
• 页数: 5页
• 分类号: TB43|O484.4
• 字数: 3111字
• 语种: 中文

摘要

采用脉冲激光沉积法,控制靶基距分别为4,6,8 cm,在聚乙烯对苯二甲酸酯基底上沉积铟锌氧化物、铟锡氧化物和铝掺杂氧化锌薄膜,研究了靶基距对薄膜电学、光学、形态和结构特性的影响.结果表明:采用6～8 cm靶基距制备的TCO薄膜,在可见光范围内的光学透光率超过90％,电阻率约为5×10-4 Ω·cm;除了这些优良的电学和光学特性外,靶基距8 cm制备的薄膜均匀、光滑、附着好,且无裂缝或任何其它扩展的缺陷,适用于光电设备.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	季鑫	上海工程技术大学基础教学学院	16	115	5.0	10.0
2	宓一鸣	上海工程技术大学基础教学学院	37	195	7.0	13.0
3	言智	上海工程技术大学材料工程学院	14	89	5.0	9.0
4	李明	上海工程技术大学材料工程学院	14	38	3.0	6.0