聚拉莫三嗪修饰玻碳电极测定痕量铜(Ⅱ)的研究

• 作者: 朱爱梅 王洪海 王赪胤 石光辉
• 来源期刊: 分析科学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 聚拉莫三嗪膜 电聚合 循环伏安法 差分脉冲溶出伏安法 铜(Ⅱ)
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 53-57
• 分类号: O657.15
• 字数: 2981字
• 语种: 中文

摘要

在稀H2SO4介质中,采用循环伏安法制备了聚拉莫三嗪膜修饰玻碳电极(PLTG/GCE),将制得的膜修饰电极(PLTG/GCE)在一定电位下选择性预富集Cu(Ⅱ),并用差分脉冲溶出伏安法测定.结果表明,该膜修饰电极对Cu(Ⅱ)的富集作用明显强于裸玻碳电极.对电聚合条件、富集和溶出介质、富集时间及富集电位等实验参数进行了考察,在优化实验条件下,Cu(Ⅱ)的浓度在4.0×10-9～1.3×10-7mol· L-1范围内与溶出峰电流呈线性关系,相关系数为0.9999,检出限为1.5×10-9 mol·L-1.该修饰电极具有较高的灵敏度和选择性,用于实际水样的分析,平均回收率为98.7％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石光辉		17	47	4.0	5.0
2	王赪胤	扬州大学化学化工学院	38	161	7.0	12.0
3	王洪海		12	22	3.0	4.0
4	朱爱梅		4	6	2.0	2.0