不同水氮条件对日光温室冬春茬黄瓜栽培氨挥发的影响

• 作者: 夏旭 李昊儒 李银坤 梅旭荣 武雪萍 郝卫平 陈敏鹏
• 来源期刊: 中国生态农业学报(中英文)
• 关键词: 日光温室 冬春季黄瓜 灌溉 氮肥 氨挥发
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1413-1419
• 页数: 7页
• 分类号: S275.3|X592
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1011.2012.01413

摘要

通过设置不同灌水、施氮处理,采用通气法研究了温室土壤施肥带与非施肥带的氨挥发特征,探讨了节水灌溉、减量施氮处理与传统水氮处理土壤氨挥发的差异及其影响因素.结果表明,冬春季温室黄瓜土壤在氮肥基施7d后出现氨挥发峰值,减施氮25％处理的氨挥发峰值比传统施氮处理降低18.2％～34.3％；追肥后,施肥带和非施肥带的氨挥发速率峰值分别在第1d和第5d出现,减施氮25％处理与传统施氮处理相比,氨挥发速率峰值降低12.3％～37.2％；节水灌溉处理与传统灌水处理相比,氨挥发峰值则提高3.9％～47.0％.土壤中铵态氮含量以及温度的升高可促进土壤的氨挥发,而土壤含水量则与氨挥发速率呈负相关.在黄瓜花期和初瓜期,施肥带的累计氨挥发量显著高于非施肥带,而初瓜期之后,施肥带与非施肥带的氨挥发无显著差异.整个黄瓜生育季的累计氨挥发量为11.4～26.6 kg·hm-2;与传统施氮和灌水处理相比,减施氮25％处理的累计氨挥发量可降低20.8％～22.2％,但节水灌溉处理的累计氨挥发量却有所增加,增加幅度为0～4.51％.适宜减少灌水和氮肥用量不会降低黄瓜产量,且可大幅度提高灌水和氮肥利用效率.