RF-PECVD制备类金刚石膜的研究

• 作者: 张华 杨坚 杨玉卫 王磊
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石膜 射频等离子体增强化学气相沉积 厚度均匀性
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 44-46
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.44|TB34|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.04.012

摘要

采用RF-PECVD法在锗(Ge)基片上沉积类金刚石(DLC)薄膜,研究了气体流量和气压对沉积区域均匀性的影响,以及基片厚度与沉积时间的关系.用拉曼光谱(Raman)分析DLC膜的结构组成,用傅立叶红外光谱仪(IR)对DLC膜的透过率进行了测量.结果表明,在气体流量为50 sccm,气压为10 Pa,功率800 W条件下薄膜厚度均匀性可达2.1％,极值透过率达62％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王磊		38	221	9.0	12.0
2	杨坚		34	201	6.0	13.0
3	张华		20	152	5.0	12.0
4	杨玉卫		7	48	3.0	6.0