溅射法制备YAG:Ce3+荧光薄膜

• 作者: 徐华蕊 朱归胜 高康
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 YAG: Ce3+荧光薄膜 光致发光
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 页码范围: 381-384
• 分类号: O484
• 字数: 2790字
• 语种: 中文

摘要

以自制铈掺杂立方相钇铝石榴石(YAG:Ce3+)荧光粉为原料经冷静压压制得到粉末靶材,在纯氩气气氛下通过射频磁控溅射法在石英玻片上镀膜,随后在氩气气氛下1100℃/3 h热处理得到YAG:Ce3+荧光薄膜.系统探讨了溅射功率、靶间距等因素对YAG:Ce3+荧光薄膜物理和发光性能的影响.分析发现采用粉末靶可以明显提高YAG:Ce3+薄膜溅射沉积速率,在靶间距20mm,溅射功率300 W的制备条件下得到的荧光薄膜经450 nm蓝光激发时,可发射524 nm的光,较商用荧光粉发射峰略有蓝移.粉末靶溅射制备荧光薄膜具有大规模实际应用潜力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐华蕊	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	31	143	7.0	10.0
2	朱归胜	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	24	97	5.0	9.0
3	高康	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	2	7	2.0	2.0