新型含硅丙烯酸酯型纳米压印胶的研究与应用

• 作者: 吕宇皓 王磊 董会杰 辛忠 陆馨
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 化学
• 关键词: 紫外纳米压印 压印胶 含硅丙烯酸酯 抗黏附 表面能
• 年，卷（期）: 2012,（9）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 630-636
• 分类号: O647.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2012.09.010

摘要

纳米压印技术因其成本低、产量高的优点广受关注,而开发可适用于纳米压印的压印胶成为该工艺的关键.合成了一种硅含量高的单体三(三甲基硅氧基)甲基丙烯酰氧丙基硅烷(TRIS),制备了一种新型紫外纳米压印用含硅丙烯酸酯型压印胶,用四点弯曲实验机和接触角测试仪表征了压印胶与模板的黏附性能,研究了配方组成对模板黏附性能的影响,优化得到了抗黏附性能优异的配方.压印实验结果表明,该压印胶与模板分离时无粘连.AFM与SEM测试结果表明,压印胶上复制得到了线宽149 nm、周期298 nm、深宽比为1的纳米光栅图形,图形结构完整.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王磊	华中科技大学国家光电实验室	75	684	15.0	23.0
2	辛忠	华东理工大学化学工程联合国家重点实验室	112	958	16.0	27.0
3	陆馨	华东理工大学化学工程联合国家重点实验室	20	171	7.0	12.0
4	吕宇皓	华东理工大学化学工程联合国家重点实验室	1	0	0.0	0.0