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摘要:
分析了EI-5Z型电子束镀膜机膜厚控制的特点.借助试验结果和理论研究,重新设计了更具实用性的调整板,得到了更好的薄膜性能:基片内偏差在±3%范围内,同一批次基片之间偏差在±5%范围内.满足了批量生产的要求.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 EI-5Z电子束镀膜机膜厚控制的改善
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 薄膜均匀性 调整板 批量生产
年,卷(期) 2012,(5) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 49-52
页数 4页 分类号 TB43
字数 1901字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.05.014
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 臧成东 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
薄膜均匀性
调整板
批量生产
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
2692
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3
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