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摘要:
利用脉冲激光沉积法在不同电阻率的n型Si(100)基片上沉积Cu2ZnSnS4薄膜,制备p-Cu2ZnSnS4/n-Si异质结.利用X射线衍射(XRD)、X射线能谱(EDS)和原子力显微镜(AFM)对Cu2ZnSnS4薄膜的结构、组分和形貌进行表征,并对器件进行I-V测试,讨论不同电阻率的Si对异质结器件光电特性的影响.结果表明,器件有良好的整流特性,Si电阻率大的器件光电响应比较好,而Si电阻率小的器件光伏效应比较明显.
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文献信息
篇名 Cu2ZnSnS4/Si异质结器件的制备及特性研究
来源期刊 真空 学科 物理学
关键词 脉冲激光沉积 Cu2ZnSnS4/Si异质结 I-V特性
年,卷(期) 2012,(5) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 45-48
页数 4页 分类号 O447|O448
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.05.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 梁齐 合肥工业大学电子科学与应用物理学院 47 197 7.0 10.0
2 李琳 合肥工业大学电子科学与应用物理学院 41 313 11.0 15.0
3 汪壮兵 合肥工业大学电子科学与应用物理学院 19 69 5.0 7.0
4 董燕 合肥工业大学电子科学与应用物理学院 6 19 3.0 4.0
5 文亚南 合肥工业大学电子科学与应用物理学院 8 21 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
脉冲激光沉积
Cu2ZnSnS4/Si异质结
I-V特性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
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