原子层淀积技术应用于太阳电池的研究进展

• 作者: 卢红亮 周鹏 孙清清 张卫 耿阳 谢立恒 谢章熠
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: 太阳电池 原子层淀积 薄膜生长
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 动态综述
• 页码范围: 307-313,360
• 分类号: TM914.4
• 语种: 中文

摘要

原子层淀积（ALD）是一种先进的纳米级薄膜生长技术,在微电子和光电子领域有着广泛的应用前景,尤其在提高太阳电池的光电转换效率方面正发挥越来越大的作用,很可能成为下一代太阳电池工艺中的重要方法。文章综述了近年来ALD技术在太阳电池领域的应用研究进展,详细介绍了ALD技术应用在不同类型太阳电池的最新研究成果和存在的问题,并对其发展趋势进行了展望。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张卫		1	1	1.0	1.0