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A Structure and Physical Properties of Ni Films in Metastable States
A Structure and Physical Properties of Ni Films in Metastable States
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摘要：
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Incorporation of silica into the goethite structure: a microscopic and spectroscopic study
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文献信息
| 篇名 | A Structure and Physical Properties of Ni Films in Metastable States | ||
| 来源期刊 | 材料科学与工程：中英文A版 | 学科 | 物理学 |
| 关键词 | NIO 薄膜 结构 物理性质 等离子体溅射 亚稳态 沉积速率 X-射线分析 | ||
| 年，卷（期） | clkxygczy-a_2012,（9） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | 648-653 | |
| 页数 | 6页 | 分类号 | O484.1 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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期刊影响力
材料科学与工程：中英文A版
主办单位：
美国大卫出版公司
出版周期：
季刊
ISSN：
2161-6213
CN：
开本：
出版地：
武汉洪山区卓刀泉北路金桥花园C座4楼
邮发代号：
创刊时间：
语种：
出版文献量（篇）
972
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