高功率脉冲磁控溅射试验平台设计及放电特性研究

• 作者: 尹星 沈丽茹 王洪国 许泽金 金凡亚 陈健 陈庆川 韩大凯
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率脉冲磁控溅射 磁控靶 放电特性
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.05.007

摘要

高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)因其高离化率而得到广泛关注,是目前的热点研究方向,为此我们搭建了试验平台并对HPPMS的放电特性进行了研究.结果表明:脉冲峰值电流随脉冲电压的增加而增加,随着气压的增加而增加.本文为进一步研究高功率脉冲磁控溅射提供了硬件条件和参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈庆川		23	63	5.0	7.0
2	金凡亚		57	226	8.0	12.0
3	沈丽茹		3	14	2.0	3.0
4	王洪国		3	5	1.0	2.0
5	许泽金		8	23	3.0	4.0
6	韩大凯		9	41	4.0	6.0
7	尹星		5	5	1.0	2.0
8	陈健		2	0	0.0	0.0