室温下射频磁控溅射制备ZnO∶Al透明导电薄膜及其性能研究

• 作者: 于光龙 叶芸 姚剑敏 张志坚 张永爱 郑灼勇 郭太良 陈景水
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: AZO薄膜 射频磁控溅射 室温制备 透明导电薄膜
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 363-367
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2012.05.01

摘要

采用射频磁控溅射技术,在室温下,以ZnO∶Al203(2％Al2O3(质量比))为靶材,在石英玻璃基底上,采用不同工艺条件制备了ZnO∶Al(AzO)薄膜.使用扫描电子显微镜观察了薄膜的表面形貌,X射线衍射分析了薄膜的结构,四探针测量仪得到薄膜的表面电阻,轮廓仪测量了薄膜厚度,并计算了电阻率,最后采用分光光度计测量了薄膜的透过率；研究了溅射功率、溅射气压与薄膜厚度对薄膜电阻率及透过率的影响.结果表明:所制备的AZO薄膜具有(002)择优取向,并且发现薄膜厚度对薄膜的光电性能有明显影响,溅射气压和溅射功率对薄膜电学性能有较大影响,但是对薄膜透过率影响不大.当功率为1kW、溅射气压0.052 Pa、AZO薄膜厚度为250nm时,其电阻率为8.38×10-4Ω·cm,波长在550 nm处透过率为89％,接近基底的本底透过率92％.当薄膜厚度为1125 nm时薄膜的电阻率降至最低(6.16×10-4 Ω·cm).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚剑敏	福州大学物理与信息工程学院	86	238	8.0	10.0
2	郭太良	福州大学物理与信息工程学院	302	1102	15.0	21.0
3	张永爱	福州大学物理与信息工程学院	57	199	8.0	11.0
4	叶芸	福州大学物理与信息工程学院	47	123	5.0	8.0
5	郑灼勇	福州大学物理与信息工程学院	5	30	3.0	5.0
6	于光龙	福州大学物理与信息工程学院	6	21	3.0	4.0
7	张志坚	福州大学物理与信息工程学院	4	17	3.0	4.0
8	陈景水	福州大学物理与信息工程学院	4	17	3.0	4.0