Ru非磁性中间层的制备及其结构研究

• 作者: 张俊敏 张昆华 李艳琼 毕珺 王传军 管伟明 谭志龙
• 来源期刊: 贵金属
• 学科: 工学
• 关键词: 金属材料 非磁性中间层 Ru薄膜 射频磁控溅射
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 38-42
• 页数: 5页
• 分类号: TG146.38
• 字数: 2349字
• 语种: 中文

摘要

以不同晶面的Si片作为基底,室温下,采用射频磁控溅射的方法制备得到Ru非磁性薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)分析薄膜的结构和形貌.研究不同基底材料对Ru中间层结构和形貌的影响.结果表明:以单晶Si(100)、Si(110)、Si(111)片作为基底制备的Ru薄膜均呈(002)晶面的择优取向生长；Ru-Si(100)、Ru-Si(110)和Ru-Si(111)薄膜表面均由细小的圆形晶粒组成.Si(111)面上生长的Ru薄膜表面颗粒尺寸最小,表面粗糙度最大,有利于磁记录层磁学性能的提高.