采用不同功率溅射制备氧化钛薄膜的研究

• 作者: 佟莉娜 张琳琳 李洪玉 杜姗 王丽格 黄美东
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射功率 磁控溅射 氧化钛薄膜 光学性能
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 页码范围: 31-34,38
• 分类号: TG113.25+1
• 字数: 1663字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2012.01.008

摘要

常温下,利用射频(RF)反应磁控溅射方法在K9双面抛光玻璃基底上沉积氧化钛薄膜.采用光栅光谱仪对薄膜样品的透射谱进行测试,通过椭圆偏振光谱仪测试并拟舍得到薄膜的厚度、折射率和消光系数等光学参数,借助掠入射角X-射线衍射对薄膜的结晶状态进行了测试.实验结果表明:不同溅射功率下沉积的样品呈非晶态,在40～100W范围内,溅射功率越大,薄膜的沉积速率越大,但溅射功率对折射率和消光系数影响不大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李洪玉	天津师范大学物理与电子信息学院	33	559	13.0	23.0
2	黄美东	天津师范大学物理与电子信息学院	56	185	7.0	10.0
3	张琳琳	天津师范大学物理与电子信息学院	5	51	3.0	5.0
4	王丽格	天津师范大学物理与电子信息学院	8	60	4.0	7.0
5	佟莉娜	天津师范大学物理与电子信息学院	7	57	4.0	7.0
6	杜姗	天津师范大学物理与电子信息学院	7	15	3.0	3.0