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摘要:
以SU-8作为结构材料,采用紫外光刻工艺,尤其以斜曝光工艺为主,加工出主光轴平行于衬底基片的微透镜阵列,单个微透镜的直径大约为500 μm.初步确定出加工此透镜所需要的曝光剂量、前烘时间、后烘时间和显影时间,为加工其他尺寸的透镜提供参考.基于此方法加工的微透镜阵列能够对光束进行聚焦、反射、衍射、相位调制等控制,从而可最终实现光开关、衰减、扫描和成像等功能,为其他微型光学器件,如分光镜和反射镜等的系统集成提供极大的便利.同时,此微透镜阵列也会被集成在微流细胞仪中用来对流式细胞仪中样本流做荧光检测,极大地提高了检测的精度.
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文献信息
篇名 基于SU-8的微透镜阵列的设计和制作
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 微透镜阵列 SU-8 光刻工艺 斜曝光 系统集成
年,卷(期) 2012,(3) 所属期刊栏目 加工、测量与设备
研究方向 页码范围 187-191
页数 分类号 TH703
字数 2509字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2012.03.009
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张斌珍 中北大学电子测试技术重点实验室 107 535 12.0 18.0
5 张剑 中北大学电子测试技术重点实验室 4 18 2.0 4.0
9 崔敏 中北大学电子测试技术重点实验室 19 102 7.0 9.0
13 刘建林 中北大学电子测试技术重点实验室 3 15 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
微透镜阵列
SU-8
光刻工艺
斜曝光
系统集成
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
月刊
1671-4776
13-1314/TN
大16开
石家庄市179信箱46分箱
18-60
1964
chi
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