钢化过程中低辐射玻璃SnOx:F薄膜氧含量的变化及其影响

• 作者: 张福成 杨静凯 董立中 赵洪力
• 来源期刊: 燕山大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 低辐射玻璃 氧化锡薄膜 钢化 表面电阻 光电子能谱
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 482-485,490
• 页数: 5页
• 分类号: TQ171.73
• 字数: 2712字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-791X.2012.06.002

摘要

采用有机金属化合物化学气相沉积法(MOCVD)在浮法玻璃上沉积了F掺杂的氧化锡薄膜,制备低辐射镀膜玻璃,并在高温电阻炉和钢化炉内分别进行热处理和钢化实验,对不同条件下的电学性能进行了研究.采用XPS和AES对薄膜中[O]/[Sn]平均含量的变化进行了分析.结果表明,在650℃之内,表面电阻没有发生明显改变,但此后快速上升至86.68Ω□；薄膜O和Sn的含量不符合化学计量比,[O]/[Sn]比均小于1.20;随着热处理温度的提高和时间的延长,薄膜中O含量有所提高,与表面电阻的变化趋势接近.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张福成	燕山大学材料科学与工程学院	76	495	12.0	19.0
5	赵洪力	燕山大学材料科学与工程学院	31	150	6.0	10.0
9	杨静凯	燕山大学材料科学与工程学院	8	14	3.0	3.0
10	董立中	燕山大学材料科学与工程学院	1	3	1.0	1.0