篇名 | The Fundamental Mechanisms of the Absorption Process of Si During Rapid Thermal Process | ||
来源期刊 | 材料科学与工程:中英文B版 | 学科 | 工学 |
关键词 | 硅晶片 吸收过程 热工过程 红外发光二极管 数字锁相放大器 机制 数据传输 实验步骤 | ||
年,卷(期) | clkxygczy-b_2012,(10) | 所属期刊栏目 | |
研究方向 | 页码范围 | 517-522 | |
页数 | 6页 | 分类号 | TN304.12 |
字数 | 语种 | ||
DOI |