偏压对电弧镀TiN薄膜结构和机械性能的影响

• 作者: 佟莉娜 刘野 孟凡宇 薛利 许世鹏 黄美东
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 TiN薄膜 偏压 机械性能
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 页码范围: 41-45
• 分类号: TG113.25+1
• 字数: 2924字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2012.02.009

摘要

采用SA - 6T电弧离子镀设备在抛光后的W18Cr4V高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,考察偏压对薄膜结构和机械性能的影响.通过扫描电镜观察了TiN薄膜的表面形貌,采用X射线衍射仪对结构进行物相分析,利用XP-2台阶仪测试了薄膜的厚度,并用纳米压痕仪和多功能表面测试仪分别对薄膜的硬度和膜基结合力进行测量.结果表明:随着负偏压的增加,具有面心立方结构的TiN薄膜沿(111)密排面的择优生长明显加强；薄膜厚度(沉积速率)呈现先增大后减小的趋势,在负偏压为100 V时达到最大;薄膜综合力学性能在负偏压为200V时达到最佳.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孟凡宇	中国民航大学基础实验中心	12	42	4.0	6.0
2	黄美东	天津师范大学物理与电子信息学院	56	185	7.0	10.0
3	刘野	天津师范大学物理与电子信息学院	10	48	5.0	6.0
4	许世鹏	天津师范大学物理与电子信息学院	5	30	5.0	5.0
5	薛利	天津师范大学物理与电子信息学院	6	33	5.0	5.0
6	佟莉娜	天津师范大学物理与电子信息学院	7	57	4.0	7.0