等离子体源辅助磁控溅射法低温(200℃)制备多晶硅薄膜

• 作者: 徐军 朱明 苏元军 范鹏辉
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 多晶硅薄膜 电感耦合等离子体 磁控溅射 拉曼散射 红外光谱
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 47-50
• 分类号: O484|TR43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.03.011

摘要

利用电感耦合等离子体辅助中频直流脉冲磁控溅射技术在200℃成功制备出多晶硅薄膜.详细介绍了等离子体源辅助磁控溅射技术制备多晶硅的工艺过程,并对辅助等离子体源放电功率对硅薄膜结晶度的影响进行了研究.利用拉曼散射、X射线衍射、傅里叶红外光谱对所制备的硅薄膜进行了表征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐军		1	0	0.0	0.0